Kontripsyon rapid iterasyon endistri elektwonik enfòmasyon an nan direksyon miniaturizasyon, gwo -operasyon frekans, ak segondè fyab, Silisyòm mikwo-poud, kòm yon nouvo materyèl kritik fondasyon sipòte devlopman nan segondè -elektwonik, fè fas kontinyèlman eskalade papòt pèfòmans. Konvansyonèl trete kraze Silisyòm mikwo-patikil poud, akòz mòfoloji iregilye yo, soufri soti nan domaj nannan tankou koule poud pòv, dansite anbalaj ba, ak pwononse konsantrasyon estrès materyèl. Lè yo aplike nan materyèl enkapsulasyon elektwonik, domaj sa yo fasilman mennen nan fann substra, ensifizan plat, ak fluctuations nan pwopriyete dyelèktrik, rann yo inoporten pou presizyon ak gwo -entegrasyon demand aparèy elektwonik avanse. Se poutèt sa, modifikasyon spheronization te parèt kòm dekouvèt debaz pou amelyore endistri mikwo-poud Silisyòm ki soti nan pwosesis ki ba-, ki koryas rive nan gwo-fen, nouvo-fabrikasyon materyèl.
Kounye a, teknoloji spheronization endikap pou Silisyòm mikwo-poud nan mache a gen ladan prensipalman fòm mekanik, fizyon flanm dife, konbisyon dirèk / metòd VMC, spheronization plasma, ak metòd sentèz chimik:
01 Metòd fòm mekanik
Metòd fòm mekanik la se pwosesis modifikasyon fizik ki pi fondamantal, ki depann sitou sou gwo -vitès mekanik brase, enpak, ak fanm k'ap pile/fòme prensip. Li itilize ekipman espesyalize fòm tankou moulen enpak gwo-vitès ak medya-moulen brase pou aplike aksyon mekanik kontinyèl nan kraze Silisyòm mikwo-poud, progresivman awondi kwen byen file ak kwen yo amelyore sikilarite patikil ak repare domaj sifas yo. Li tou kraze aglomere difisil, amelyore dansite esansyèl ak koule.
Avantaj ki genyen nan metòd la fòm mekanik kouche nan pri ki ba li yo, itilizasyon konplè resous ki egziste deja, pwosesis senp, zanmitay anviwònman an, ak évolutivité endistriyèl. Sepandan, rapò a patikil esferik, dansite tiyo, ak pwodiksyon pwosesis nan poud ki kapab lakòz pa ka seryezman garanti, fè li apwopriye sèlman pou pwodiksyon poud esferik ak pi ba kondisyon kalite.
02 Metòd fizyon flanm dife
Metòd fizyon flanm dife a se kounye a wout teknolojik debaz pou endistriyalizasyon poud silica esferik nan Lachin, ki karakterize pa teknoloji ki gen matirite, pri pwodiksyon jeneral relativman ba, gwo kapasite, ak konvnab pou gwo -echèl pwodiksyon kontinyèl. Espesyalman, poud silica angilè yo itilize kòm matyè premyè, ki sibi etap pre-tretman tankou fraisage jè, tamisage milti-etap, ak pirifikasyon. Lè sa a, poud nan gwosè ki apwopriye yo manje nan yon flanm dife ki wo -, kote patikil yo fonn enstantane epi kontraksyon an fòm esferik anba tansyon sifas, ki te swiv pa refwadisman rapid ak solidifikasyon.
Sous chalè a nan metòd flanm dife a anjeneral anplwaye gaz pwòp tankou asetilèn oswa gaz natirèl, ki bay yon flanm dife pwòp san kontaminasyon. Sepandan, rezilta spheronization siyifikativman enfliyanse pa faktè ki gen ladan gwosè patikil matyè premyè, jaden tanperati flanm dife, tan rezidans, ak estabilite manje. Move kontwòl pwosesis ka mennen nan pwoblèm tankou aglomerasyon patikil, esfè kre, elaji distribisyon gwosè patikil, konsistans spheronization ensifizan, ak pousantaj spheronization ki ba pou poud ultrafin ak submicron.
03 Metòd Spheronization Plasma
Metòd spheronization plasma a se yon teknik ki itilize eta -enèji segondè nan plasma pou pwosesis materyèl. Prensip li a enplike nan mete Silisyòm mikwo-poud ki te sibi ultra-broyaj amann ak retire enpurte chimik nan yon raktor plasma. Poud lan fonn rapidman nan zòn tanperati ki wo -nan flanbo plasma a, Lè sa a, fòme ti gout esferik anba tansyon sifas, epi solidifye nan patikil esferik apre refwadisman rapid. Konpare ak metòd fizyon flanm dife a, plasma spheronization prezante yon dire trè kout nan ekspoze tanperati ki wo -, ki efektivman evite transfòmasyon faz cristalline nan silica. Anplis, akòz wo degre automatisation li yo ak bon estabilite, li asire pi wo pousantaj spheronization, siperyè inifòmite gwosè patikil, ak kontni enpurte ki ba anpil.
Men, metòd sa a toujou ap fè fas ak gwo defi nan adopsyon echèl endistriyèl-. Premyèman, plasma tèmik se sitou chofe pa elektrisite, epi gen pèt sibstansyèl pandan konvèsyon enèji elektrik nan plasma, sa ki lakòz itilizasyon enèji ki ba ak konsekans gwo depans chofaj. Dezyèmman, pouvwa endiksyon dèlko plasma tèmik se kontrent pa ekipman ekipman pou pouvwa, ak gwo -founiti pouvwa pouvwa yo koute chè, ki enplike gwo envestisman kapital, ki limite aplikasyon endistriyèl. Anplis de sa, ekipman debaz tankou fou spheronization plasma rete monopolize pa konpayi Japonè ak Alman yo. Gwo pri envestisman inisyal la tou se yon faktè kritik ki limite aplikasyon gwo -echèl li a.
04 Metòd konbisyon dirèk/VMC
Metòd konbisyon dirèk la (ke yo rele tou metòd VMC) te orijinèlman devlope pa Admatechs Japon an e li konsidere kòm yon pwosesis referans klasik nan domèn anbalaj semi-conducteurs mondyal segondè -. Metòd sa a sèvi ak gwo -poud Silisyòm metalik pite kòm matyè premyè. Silisyòm poud metalik ultrafin la gaye inifòmman nan yon kouran oksijèn pou sibi yon reyaksyon deflagrasyon kontwole, jenere silica. Ansanm, chalè reyaksyon enstantane ultra-segondè nan oksidasyon Silisyòm ki te pibliye a lakòz silica pwodwi a fonn ak vaporize imedyatman, Lè sa a, re-fòm anba tansyon sifas ak rapidman fre ak solidifye, fòme patikil amorphe silica esferik nan plas. Pandan tout pwosesis la, kontwòl egzak nan konsantrasyon oksijèn, tanperati, ak vitès koule pèmèt règleman amann nan gwosè patikil ak mòfoloji.
Konpare ak lòt metòd fizik, metòd VMC la genyen batay la limit enpurte nan matyè premyè minrè kwatz natirèl. Lè yo fè sentèz soti nan Silisyòm metalik pite segondè -, pwodwi a reyalize kontni enpurte metal ki ba anpil, pa gen okenn faz cristalline rezidyèl, pwopriyete dyelèktrik ekselan, yon distribisyon gwosè patikil etwat, monodispersity eksepsyonèl, ak wonn patikil ekstrèmman wo. Konsistans pwodwi li yo byen lwen depase metòd tradisyonèl flanm dife. Yo itilize sitou pwodwi yo nan senaryo ki gen gwo -valè-tankou anbalaj semi-kondiktè segondè-yo ak materyèl elektwonik presizyon segondè-frekans yo. Sepandan, paske reyaksyon deflagrasyon poud Silisyòm metalik mande pou sele ekipman trè wo ak presizyon sistèm kontwòl paramèt, envestisman ekipman ak depans antretyen yo se sibstansyèl, jesyon sekirite pwosesis la eksepsyonèlman difisil, papòt pwodiksyon yo wo, ak monopoli teknolojik fò -domine alontèm - Admatech Japon an.
05 Metòd sentèz chimik
Metòd sentèz chimik yo sitou gen ladan sol-jèl, sentèz faz gaz-, reyaksyon mikwoemulsyon, kwasans presipitasyon/grenn, ak lòt moun. Pwosesis sa a ki diferan de lojik post-tretman ki fòme nan modifikasyon fizik, sèvi ak silane précurseurs, silikat ki gen gwo-pite, elatriye, kòm matyè premyè. Lè yo kontwole idroliz sous Silisyòm, kondansasyon, nikleyasyon, ak pwosesis kwasans patikil, patikil silica esferik yo sentèz dirèkteman in situ nan nivo molekilè, san yo pa konte sou matyè poud kwatz kraze. Pwodwi a gen pite trè wo epi li montre pi gwo potansyèl an tèm de gwosè patikil amann, distribisyon gwosè etwat, ak konsepsyon estriktirèl.
Lè w pran metòd klasik sol-jèl la kòm egzanp, li itilize sistèm Stöber la, lè l sèvi avèk tetraethyl orthosilicate (TEOS) kòm sous Silisyòm nan yon etanòl katalitik debaz (egzanp, amonyak)-dlo melanje sòlvan sistèm pou idroliz ak reyaksyon kondansasyon. TEOS premye idrolyse pou fòme monomère silanol, ki sibi kondansasyon dezidratasyon pou fòme oligomè silica (SiO₂), evantyèlman ap grandi sou nwayo pou pwodui mikrosfè silica monodispèse. Pou preparasyon pi gwo -patikil esferik dyamèt, kwasans grenn ak metòd presipitasyon ki siprime nikleyasyon segondè ak ankouraje kwasans epitaxial patikil ki egziste deja yo ka adopte.